Description

Photoresist Developer Solution 125mL for Electronic Photoresist PCBs

Overview

✅ Purpose-built developer for positive photoresist PCB making, used right after UV exposure and before copper etching to reveal tracks cleanly and fast at room temperature. It works with presensitized copper boards and photosensitive dry film and does not attack copper, so edges stay crisp and pads stay circular. Capacity 125 mL comfortably serves up to ≈400 cm² of pure PCB area in just ≈5 minutes with gentle brushing.

Why This Developer

🔬 Lab-grade clarity: Balanced reactivity removes only the exposed resist, protecting masked areas for high contrast artwork.
⏱️ Fast at room temp: Typical development completes in minutes without heating—ideal for classrooms, makers, and rapid prototyping.
🧪 No dilution hassle: Use straight from the bottle; consistent strength means repeatable results across batches.
🟩 Copper-friendly: Non-corrosive to copper so tracks don’t undercut during development.
🧰 Maker-ready kit fit: Works seamlessly with UV exposure boxes, dry film rolls, and presensitized FR-4 boards.
🧴 Compact 125 mL bottle: Space-saving container with tight cap for safer storage and reduced evaporation.

What You Can Make

✨ Single- or double-sided PCBs for Arduino shields, sensor breakouts, power modules, LED drivers, audio preamps, RF test coupons, and fine-pitch SMD adapters.
🏭 Teaching labs, fab-labs, and repair shops needing predictable, low-odor development without special facilities.
🧩 Small production runs or prototypes where trace fidelity and pad roundness matter.

Key Features & Benefits

✅ Clean reveal of artwork — sharp tracks, solid fills, and legible text at small font sizes.
✅ Consistent chemistry — pre-mixed strength eliminates mixing errors and reduces scrap rate.
✅ Copper safe — avoids premature thinning of copper during development.
✅ Time saver — 5-minute typical cycle keeps your etching window tight.
✅ Room-temperature workflow — no hot plates or heaters needed.
✅ Smooth brushing action — pairs well with soft, non-metallic brushes to accelerate lift-off evenly.
✅ Low learning curve — a short sequence of steps makes results reproducible for beginners.
✅ Broad compatibility — positive photoresist dry film and presensitized boards from common brands.
✅ Compact & economical — 125 mL covers up to ~400 cm² of pure PCB area.
✅ Clear, light-yellow liquid — easy to see development progress in the tray.

What’s in the Bottle

🔹 Net Capacity: 125 mL clear, light-yellow developer in a plastic bottle with screw cap
🔹 Typical Dimensions (bottle): ~90 mm height × ~45 mm diameter (for reference)
🔹 State: Ready-to-use solution (do not dilute)

Compatibility

🧩 Resists: Positive photoresist coatings and photosensitive dry film sheets
🧲 Substrates: Presensitized copper-clad FR-4/FR-1 boards
🧪 Etchants: Works with typical etchants after development (e.g., ferric chloride, cupric chloride, persulfate systems)

Recommended Process (Quick Guide)

⚙️ 1) After exposure: Shake bottle gently. Pour a small amount into a plastic or glass tray—no dilution.
⚙️ 2) Develop: Immerse the board at room temperature. Use a soft brush with smooth strokes until the exposed resist lifts (≈5 min).
⚙️ 3) Rinse thoroughly: Wash the PCB with water to stop action and remove residues.
⚙️ 4) Etch copper: Proceed to the etching stage only after a clean rinse and inspection of features.
⚙️ 5) Post-etch rinse: Before any stripping steps, rinse again to keep the process stable.

Detailed Tips for Perfect Results

💡 Don’t over-develop: Remove only the exposed resist—masked areas must stay intact and glossy.
💡 Agitation beats heat: Gentle brushing accelerates development evenly without risking swelling.
💡 Lighting: Normal room light is fine after exposure; avoid intense UV sources near the tray.
💡 Edge fidelity: Keep board flat; support corners to prevent pooling which can soften edges.
💡 Inspection cue: Tracks should appear bright copper while masked zones remain covered; magnify fine pitch to confirm integrity.
💡 Warm-up option: If you need a small speed boost, indirectly warm the sealed bottle by placing it in 30–40 °C water for a short time—never heat directly.
💡 Tray choice: Use light-colored plastic to better see progress; avoid metal containers.
💡 Discipline: Always rinse before etching and again before any resist stripping to keep chemistry clean.

Safety & Handling

🧤 Wear disposable gloves and eye protection.
🌬️ Work in a well-ventilated area.
🚫 Do not breathe any vapors or aerosols generated during brushing.
🧒 Keep out of reach of children.
🔒 Keep the cap tightly closed when not in use.
👁️ In case of eye/skin contact: rinse with plenty of water.
🔥 Do not place on direct heat; store away from heat and sunlight.

What It’s Not

⛔ Not an etchant; it does not remove copper.
⛔ Not for negative resists.
⛔ Not intended to be diluted or mixed with other chemicals.

Technical Specifications

In the Box

📦 1 × 125 mL Photoresist Developer Solution bottle
📖 Quick process card (printed on label and gallery assets)

FAQs

🟣 Do I need to dilute? No—use as supplied.
🟣 Can I heat it to go faster? Not recommended. If needed, indirectly warm the sealed bottle in 30–40 °C water for a short time.
🟣 Will it attack copper? No; it’s copper-friendly during development.
🟣 What brush should I use? A soft, smooth, non-metallic brush or foam swab.
🟣 What sizes can I achieve? With good exposure and clean artwork, fine traces and small text are attainable due to crisp development.
🟣 How do I dispose of spent solution? Follow local regulations for photo-chemicals; never pour into natural water sources.

Box Copy (Highlights)

🔌 Ready-to-use developer for positive photoresist PCBs
⚙️ Room-temperature processing (~5 min)
🛡️ Copper-safe, non-corrosive action
📐 Sharp, clean features for fine-pitch layouts
📏 125 mL covers ~400 cm²

محلول مُظهِّر الريزست الضوئي 125 مل لصناعة لوحات الدوائر المطبوعة

نظرة عامة

✅ مُظهِّر مُحضَّر خصيصًا لريزست الصور الإيجابي، يُستخدم مباشرةً بعد التعريض بالأشعة وقبل حفر النحاس لإظهار مسارات الدائرة بوضوح وسرعة عند درجة حرارة الغرفة. يعمل مع ألواح النحاس المُحضَّرة مسبقًا والريزست الضوئي على هيئة فيلم، ولا يهاجم النحاس، فيحافظ على حواف حادّة وبادات مستديرة. السعة 125 مل تكفي لما يصل إلى ≈400 سم² من المساحة النحاسية الصافية خلال ≈5 دقائق مع فرشاة ناعمة.

لماذا هذا المنتج

🔬 وضوح معملي: يزيل الطبقة المعرضة فقط ويحمي المناطق المحجوبة لتحصل على تباين مرتفع.
⏱️ سريع بدون تسخين: إظهار كامل في دقائق، مناسب للمشاريع والتعليم والنماذج الأولية.
🧪 جاهز للاستخدام دون تخفيف: ثبات التركيز يمنح نتائج يمكن تكرارها.
🟩 لطيف على النحاس: غير مُتآكل للنحاس أثناء الإظهار.
🧰 متوافق مع أدوات الهواة والمعامل: يعمل مع صناديق التعريض، وأفلام الريزست، والألواح المُجهَّزة.
🧴 زجاجة عملية 125 مل: إغلاق محكم وحجم صغير للتخزين الآمن.

ما الذي يمكنك صنعه

✨ لوحات أحادية ومزدوجة الوجه لمشاريع المتحكمات، محولات الحساسات، وحدات القدرة، مشغلات LED، مضخمات الصوت، عينات RF، ومحوّلات التغليفات الدقيقة.
🏭 معامل تعليمية ومختبرات تصنيع ومراكز صيانة تحتاج تطويرًا متوقعًا وقليل الرائحة.
🧩 دفعات إنتاج صغيرة حيث دقة المسارات أمرٌ حاسم.

المزايا والفوائد

✅ إظهار نظيف للتصميم — مسارات حادّة، مساحات ممتلئة، ونصوص صغيرة واضحة.
✅ تركيبة ثابتة — تمنع أخطاء الخلط وتقلل الهالك.
✅ لا يهاجم النحاس — يحافظ على سمك النحاس أثناء الإظهار.
✅ يوفّر الوقت — دورة ≈5 دقائق.
✅ تشغيل بدرجة الغرفة — بدون سخانات.
✅ فرشاة ناعمة تُسرّع الإظهار — حركة سلسة لتجانس الرفع.
✅ منحنى تعلم بسيط — خطوات قليلة قابلة للتكرار للمبتدئين.
✅ توافق واسع — مع الفيلم الضوئي والألواح المُحسّسة إيجابيًا.
✅ اقتصادي ومضغوط — 125 مل تغطي حتى ~400 سم².
✅ سائل أصفر فاتح شفاف — يسهل متابعة التقدّم داخل الصينية.

محتويات العبوة

🔹 السعة الصافية: 125 مل محلول مُظهِّر شفاف مائل للصفرة في زجاجة بلاستيكية محكمة.
🔹 الأبعاد التقريبية للزجاجة: طول ~90 مم × قطر ~45 مم (للاسترشاد).
🔹 الحالة: جاهز للاستخدام (بدون تخفيف).

التوافق

🧩 الريزست: الريزست الضوئي الإيجابي وفيلم الريزست الحساس للضوء.
🧲 الركائز: ألواح النحاس المُحضَّرة مسبقًا FR-4/FR-1.
🧪 مذيبات الحفر: يُستخدم قبل الحفر (كلوريد الحديديك، كلوريد النحاس، سلفات… إلخ).

خطوات العمل الموصى بها

⚙️ 1) بعد التعريض: رجّ الزجاجة برفق. صُب كمية قليلة في صينية بلاستيكية أو زجاجية—بدون تخفيف.
⚙️ 2) التطوير: اغمر اللوحة عند درجة حرارة الغرفة. حرّك بفرشاة ناعمة حتى ترتفع الطبقة المعرضة (≈5 دقائق).
⚙️ 3) اشطف جيّدًا: اغسل اللوحة بالماء لإيقاف المفعول وإزالة البقايا.
⚙️ 4) الحفر: انتقل للحفر بعد التأكد بصريًا من وضوح المسارات.
⚙️ 5) بعد الحفر: اشطف مجددًا قبل أي خطوة إزالة ريزست لاحقة.

نصائح للحصول على أفضل نتيجة

💡 تجنّب الإفراط في الإظهار: أزل المعرض فقط، واترك المناطق المحجوبة سليمة.
💡 التحريك أهم من التسخين: فرشاة ناعمة تمنح سرعة وتجانسًا دون انتفاخ.
💡 الإضاءة: ضوء الغرفة عادي مناسب بعد التعريض؛ ابتعد عن مصادر UV حول الصينية.
💡 حفظ الحواف: أبق اللوحة مستوية لمنع التجمّع عند الأطراف.
💡 علامة الفحص: تظهر المسارات بلون النحاس اللامع بينما تبقى المناطق المحجوبة مغطاة.
💡 تسخين غير مباشر عند الحاجة: يمكن تدفئة الزجاجة المغلقة بوضعها في ماء 30–40 °م لفترة قصيرة—بدون تسخين مباشر.
💡 اختر الصينية المناسبة: بلاستيك فاتح اللون لتحسين الرؤية؛ تجنّب المعادن.
💡 الانضباط الكيميائي: اشطف دائمًا قبل الحفر وبعده للحفاظ على نقاء المراحل.

السلامة والمناولة

🧤 قفازات ونظارات واقية.
🌬️ تهوية مناسبة.
🚫 تجنّب استنشاق الأبخرة أو الرذاذ.
🧒 يُحفظ بعيدًا عن متناول الأطفال.
🔒 أغلق الزجاجة بإحكام بعد الاستخدام.
👁️ عند ملامسة العين/الجلد: اشطف بوفرة من الماء.
🔥 يُحفظ بعيدًا عن مصادر الحرارة وأشعة الشمس المباشرة.

ما ليس عليه المنتج

⛔ ليس محلول حفر ولا يزيل النحاس.
⛔ غير مخصص للريزست السالب.
⛔ غير قابل للتخفيف أو الخلط.

جدول المواصفات

الأسئلة المتكررة

🟣 هل أُخففه بالماء؟ لا—يُستخدم كما هو.
🟣 هل أُسخّنه؟ غير مستحب. عند الضرورة، تدفئة غير مباشرة للزجاجة المغلقة.
🟣 هل يؤثر على النحاس؟ لا، لطيف على النحاس أثناء الإظهار.
🟣 أي فرشاة؟ ناعمة غير معدنية أو إسفنجة.
🟣 ما حدود الدقة؟ مع تعريض جيد، تُشكَّل مسارات دقيقة ونصوص صغيرة بوضوح.
🟣 كيف أتخلّص من المحلول بعد الاستخدام؟ حسب لوائح منطقتك للتخلّص من الكيماويات الضوئية.

ريزست ضوئي إيجابي، فيلم حساس للضوء، لوح مُحضَّر، مُظهِّر، حفر النحاس، إيتشنغ، دراي فيلم، UV، رشّ، شطف، تغطية 400 سم²، 5 دقائق، 125 مل.